【題目】如圖是部分短周期元素原子半徑與原子序數的關系圖。則下列說法正確的是( )
A. Z、N兩種元素的離子半徑相比，前者較大
B. X、N兩種元素的氣態氫化物的穩定性相比，前者較弱
C. 由X與M兩種元素組成的化合物不能與任何酸反應，但能與強堿反應
D. Z的氧化物能分別溶解于Y的氫氧化物和N的氫化物的水溶液
【答案】D
【解析】試題分析：同周期從左到右原子半徑減小，同主族元素從上而下原子半徑增大，故前7種元素處于第二周期，后7中元素處于第三周期，由原子序數可知，X為氧元素，Y為鈉元素，Z為鋁元素，M為硅元素，N為硫元素，N為氯元素。A、Z、N兩種元素的離子分別為鈉離子和氯離子，最外層電子數相同，電子層越多離子半徑越大，故離子半徑鈉離子小于氯離子，A錯誤；B、非金屬性氧大于氯，非金屬性越強氫化物越穩定，故穩定性水大于氯化氫，B錯誤；C、由X與M兩種元素組成的化合物是二氧化硅，能與氫氟酸反應，C錯誤；D、氧化鋁是良性氧化物，能與氫氧化鈉反應生成偏鋁算鈉，能與鹽酸反應生成氯化鋁，D正確；答案選D。
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【題目】右圖是一個化學過程的示意圖。已知甲池的總反應式為：
2CH3OH+3O2+4KOH＝2K2CO3+6H2O
（1）請回答圖中甲、乙兩池的名稱。甲電池是 裝置，乙池是 裝置。
（2）請回答下列電極的名稱：通入CH3OH的電極名稱是 ，B（石墨）電極的名稱是 。
（3）寫出電極反應式：
通入O2的電極的電極反應式是 。
A（Fe）電極的電極反應式為 。
（4）乙池中反應的化學方程式為 。
（5）當乙池中A（Fe）極的質量增加5.40g時，甲池中理論上消耗O2 mL（標況）
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【題目】右圖三條曲線表示C、Si和P元素的四級電離能變化趨勢。下列說法正確的是（ ）
A. 電負性：c>b>a B. 最簡單氫化物的穩定性：c>a>b
C. I5：a>c>b D. 最簡單氫化物的沸點：a>b>c
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【題目】填空
（1）按要求完成下列問題：
①甲基的電子式___________。
②寫出制備TNT的化學反應方程式___________。
③反式2一丁烯的結構簡式___________
（2）下列括號內的物質為雜質，將除去下列各組混合物中雜質所需的試劑填寫在橫線上：
①乙酸乙酯(乙醇)________；②甲苯(溴)________；
（3）下列鹵代烴既能發生消去反應生成烯烴，又能發生水解反應生成醇的是
（4）實驗室用純溴和苯反應制取溴苯，得到粗溴苯后，要用如下操作進行提純：①蒸餾 ②水洗 ③用干燥劑干燥 ④10%NaOH溶液洗正確的操作順序是 。
（5）某高聚物的結構式如圖：
其單體的名稱為
（6）某有機物的結構簡式為
據此填寫下列空格。
①該物質苯環上一氯代物有________種；
②1mol該物質和溴水混合，消耗Br2的物質的量為________mol；
③1mol該物質和H2加成需H2________mol；
（7）
與等物質的量的Br2發生加成反應，生成的產物是
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【題目】硅單質及其化合物應用范圍廣。請回答下列問題：
（1）制備硅半導體材料必須先得到高醇硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)還原法是當前制備高純硅的主要方法.生產過程示意圖如下:
①寫出由純SiHCl3制備高純硅的化學反應方程式 ．
②整個制備過程必須嚴格控制無水無氧。SiHCl3遇水劇烈反應生成H2SiO3、H2和另一種物質。寫出配平的化學反應方程式 ；H2還原SiHCl3過程中若混O2，可能引起的后果是 ．
（2）下列有關硅材料的說法正確的是 （填字母）。
A．高純度的硅，可用于生產光電池，將光能直接轉換為電能
B．氮化硅硬度大.熔點高.可用于制作高溫陶瓷和軸承
C．高純度的二氧化硅可用于制造高性能通訊材料----光導纖維
D．普通玻璃是由純堿.石灰石和石英砂制成的
E．鹽酸可以與硅反應.故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅
（3）硅酸鈉水溶液俗稱水玻璃，取少量硅酸鈉溶液于試管中，逐滴加入飽和氯化銨溶液，振蕩。寫出實驗現象并給予解釋 。
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【題目】【有機選做】有機物DBP常用作纖維素樹脂和聚氯乙烯的增塑劑，特別適用于硝酸纖維素涂料。具有優良的溶解性、分散性和粘著性。由有機物A和鄰二甲苯為原料可以合成DBP。
③烴A是有機合成的重要原料。A的質譜圖最大m/z為42，紅外光譜表明分子中含有碳碳雙鍵；B能發生銀鏡反應；有機物C的核磁共振氫譜顯示其分子中含有5種化學環境不同的氫原子，且個數之比為3：2：2：2：l。
回答下列問題：
（1）A的結構簡式為________；A在一定條件下生成聚合物的化學方程式為_______________。
（2）D中的含氧官能團是___________。有機物D和足量有機物C反應生成DBP的化學方程式是____________________________________________。
（3）下列說法正確的是___________ （選填序號字母）。
A．A能發生聚合反應、加成反應和氧化反應
B．與C互為同分異構體，且含有相同官能團的有機物有2種
C．鄰二甲苯能氧化生成D說明有機物分子中基團之間存在影響
D．1 mol DBP可與含4mol NaOH的溶液完全反應
（4）工業上常用有機物E（C8H4O3）代替D生產DBP。反應分為兩步進行：
i）E+C
中間產物 ii）中間產物+C 
DBP+H2O
①請猜測E的結構簡式___________。[
②工業上生產有機物E的反應如下：2X+9O2
2E+4CO2+4H2O，芳香烴X的一溴代物只有兩種。X的結構簡式是________。
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【題目】A、B、C、D四種元素，原子序數依次增大，A原子的最外層上有4個電子；B的陰離子和C的陽離子具有相同的電子層結構，兩元素的單質反應，生成一種淡黃色的固體E，D的L層電子數等于K、M兩個電子層上的電子數之和。
（1）A為 ，B為 ，C為 。D的最高價氧化物的水化物是 。
（2）寫出A、B的化合物與E反應的化學方程式： 。
（3）A、B兩元素形成化合物屬 （填“離子”或“共價”）化合物。
（4）寫出D的最高價氧化物的水化物和A反應的化學方程式： 。
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【題目】W結構中含有三個六元環，是一種新型香料的主要成分之一。W的合成路線如下(部分產物和部分反應條件略去)：
已知：①RCH===CH2＋CH2===CHR′CH2===CH2＋RCH===CHR′
②B中核磁共振氫譜圖顯示分子中有6種不同環境的氫原子
③D和H是同系物
請回答下列問題：
（1）G分子中含有的官能團名稱是 。
（2）A→B反應過程中涉及的反應類型有 、 。
（3）W的結構簡式為 。
（4）B→C的化學方程式為 ；由D生成高分子化合物的方程式為 。[
（5）同時滿足下列條件的F的同分異構體有 種(不包括立體異構)：
①能發生銀鏡反應；②能發生水解反應。
其中核磁共振氫譜為5組峰的為 (寫結構簡式)，其峰面積之比為 。
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【題目】固定和利用CO2能有效地利用資源，并減少空氣中的溫室氣體。工業上有一種用CO來生產甲醇燃料的方法： CO2(g)＋3H2(g)
CH3OH(g)＋H2O(g)。某科學實驗將6molCO2和8molH2充入2L的密閉容器中，測得H2的物質的量隨時間變化如圖實線所示a，b，c，d括號內數據表示坐標。
（1）0-a,a-b,b-c,c-d四段中，平均反應速率最大的時間段是 ，該時間段內H2的平均反應速率是 。
（2）a點正反應速率_______（填大于、等于或小于）逆反應速率。
（3）平衡時CO2的轉化率是 ；反應前后容器內的壓強比是 。
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