精英家教網(wǎng) > 高中化學(xué) > 題目詳情

相同質(zhì)量的S分別在相同質(zhì)量的適量空氣和氧氣中燃燒所放出熱量前后兩個(gè)數(shù)據(jù)的比較

A.
大于
B.
小于
C.
等于
D.
無法確定

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相關(guān)習(xí)題

科目：高中化學(xué) 來源： 題型：閱讀理解

（2013?濰坊模擬）工業(yè)上電解飽和食鹽水能制取多種化工原料，其中部分原料可用于制備多晶硅．下圖1是離子交換膜法（允許鈉離子通過，不允許氫氧根與氯離子通過）電解飽和食鹽水，電解槽陽極產(chǎn)生的氣體是

氯氣

，NaOH溶液的出口為

（填字母），精制飽和食鹽水的進(jìn)口為

（填字母），干燥塔中應(yīng)使用的液體是

濃硫酸

．

（1）多晶硅主要采用SiHCl₃還原工藝生產(chǎn)，其副產(chǎn)物SiCl₄的綜合利用受到廣泛關(guān)注．SiCl₄可制氣相白炭黑（與光導(dǎo)纖維主要原料相同），方法為高溫下SiCl₄、H₂、O₂反應(yīng)，產(chǎn)物有兩種，化學(xué)方程式為

SiCl₄+2H₂+O₂

高溫

SiO₂+4HCl

SiCl₄+2H₂+O₂

高溫

SiO₂+4HCl

．SiCl₄可轉(zhuǎn)化為SiCl₃而循環(huán)使用．一定條件下，在20L恒容密閉容器中反應(yīng)3SiCl₄（g）+2H₂（g）+Si（s）═4SiHCl₃（g）達(dá)平衡后，H₂與SiHCl₃物質(zhì)的量濃度分別為0.140mol/L和0.020mol/L，若H₂全部來源于離子交換膜法的電解產(chǎn)物，理論上需消耗NaCl的質(zhì)量為

0.35

kg．
（2）如圖2，實(shí)驗(yàn)室制備H₂和Cl₂通常采用下列反應(yīng)：
Zn+H₂SO₄?ZnSO4+H2↑，MnO2+4HCl(濃)

△

MnCl2+Cl2↑+2H2O
據(jù)此，從下列所給儀器裝置中選擇制備并收集H₂的裝置

（填代號(hào)）和制備并收集干燥、純凈Cl₂的裝置

（填代號(hào)）．
可選用制備氣體的裝置：
（3）采用無膜電解槽電解飽和食鹽水，可制取氯酸鈉，同時(shí)生成氫氣．現(xiàn)制得氯酸鈉213.0kg，則生成氫氣

134.4

m³（標(biāo)準(zhǔn)狀況）．（忽略可能存在的其他反應(yīng)）

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科目：高中化學(xué) 來源： 題型：閱讀理解

（2012?長(zhǎng)寧區(qū)一模）Ⅰ．工業(yè)上電解飽和食鹽能制取多種化工原料，其中部分原料可用于制備多晶硅．
（1）原料粗鹽中常含有泥沙和Ca²⁺、Mg²⁺、Fe³⁺、SO₄^2-等雜質(zhì)，必須精制后才能供電解使用．精制時(shí)，粗鹽溶于水過濾后，還要加入的試劑分別為①Na₂CO₃、②HCl（鹽酸）③BaCl₂，這3種試劑添加的合理順序是

③①②

（填序號(hào)）洗滌除去NaCl晶體表面附帶的少量KCl，選用的試劑為

③

．（填序號(hào)）（①飽和Na₂CO₃溶液 ②飽和K₂CO₃溶液 ③75%乙醇　④四氯化碳）
（2）如圖是離子交換膜（允許鈉離子通過，不允許氫氧根與氯離子通過）法電解飽和食鹽水示意圖，電解槽陽極產(chǎn)生的氣體是

氯氣

；NaOH溶液的出口為

（填字母）；精制飽和食鹽水的進(jìn)口為

（填字母）；干燥塔中應(yīng)使用的液體是

濃硫酸

．

Ⅱ．多晶硅主要采用SiHCl₃還原工藝生產(chǎn)，其副產(chǎn)物SiCl₄的綜合利用受到廣泛關(guān)注．
（1）SiCl₄可制氣相白炭黑（與光導(dǎo)纖維主要原料相同），方法為高溫下SiCl₄與H₂和O₂反應(yīng)，產(chǎn)物有兩種，化學(xué)方程式為

SiCl₄+2H₂+O₂

高溫

SiO₂+4HCl

SiCl₄+2H₂+O₂

高溫

SiO₂+4HCl

．
（2）SiCl₄可轉(zhuǎn)化為SiHCl₃而循環(huán)使用．一定條件下，在20L恒容密閉容器中的反應(yīng)：
3SiCl₄（g）+2H₂（g）+Si（s）?4SiHCl₃（g）
達(dá)平衡后，H₂與SiHCl₃物質(zhì)的量濃度分別為0.140mol/L和0.020mol/L，若H₂全部來源于離子交換膜法的電解產(chǎn)物，理論上需消耗純NaCl的質(zhì)量為

0.351

kg．
（3）實(shí)驗(yàn)室制備H₂和Cl₂通常采用下列反應(yīng)：
Zn+H₂SO₄→ZnSO₄+H₂↑；MnO₂+4HCl（濃）

△

MnCl₂+Cl₂↑+2H₂O
據(jù)此，從下列所給儀器裝置中選擇制備并收集H₂的裝置

（填代號(hào)）和制備并收集干燥、純凈Cl₂的裝置

（填代號(hào)）．
可選用制備氣體的裝置：