Question

【題目】L、M、R、T、W是原子序數依次增大的短周期主族元素，M、T在周期表中的相對位置如下表，L與R原子的最外層電子數相同，R的單質是一種常見的半導體材料。

M
	T

請回答下列問題：

(1)T離子的結構示意圖為__________，元素W在周期表中位于第______族，M單質分子的電子式為__________。

(2)R是組成玻璃的元素之一，不能用帶磨口玻璃塞的試劑瓶盛放氫氧化鈉溶液的原因是(用化學方程式表示)__________。

(3)下列有關相應元素非金屬性強弱比較的說法，正確的是(填序號)__________。

a．M的氣態氫化物比R的氣態氫化物穩定，則非金屬性M強于R

b．高溫下，L的單質能從R的最高價氧化物中置換出R，則非金屬性L強于R

c．W的核電荷數比T多，原子半徑比T小，得電子能力強，則非金屬性W強于T

(4)工業上可用二氧化硅、氯氣和焦炭在高溫條件下制備RW4，該反應中除RW4外的另一種產物可用于工業煉鐵。制備RW4的化學方程式為______________________________。

Answer 1

【答案】 ⅦA SiO2+2NaOH==Na2SiO3+H2O ac 2Cl2+SiO2+2CSiCl4+2CO

【解析】試題分析：R的單質是一種常見的半導體材料，R是Si元素；L與R原子的最外層電子數相同，L是C元素；L、M、R、T、W是原子序數依次增大，根據M、T在周期表中的相對位置，M是ⅤA族元素、T是ⅥA族元素、W是ⅦA族元素，所以M、T、W分別是N、S、Cl元素。

解析：根據以上分析，(1)S2-的結構示意圖為，氯元素在周期表中位于第3周期，第ⅦA族，N2分子中存在氮氮三鍵，電子式為。

(2)二氧化硅與氫氧化鈉反應生成硅酸鈉和水，所以不能用帶磨口玻璃塞的試劑瓶盛放氫氧化鈉溶液，化學方程式為SiO2+2NaOH==Na2SiO3+H2O。

(3)下列有關相應元素非金屬性強弱比較的說法，正確的是(填序號)__________。

NH3比SiH4穩定，則非金屬性N強于Si，故a增強。

高溫下單質碳能從二氧化硅中置換出硅，表現碳的還原性，不能推出非金屬性C強于Si，故b錯誤；

得電子能力越強，非金屬性越強，故c正確；

(4)工業上可用二氧化硅、氯氣和焦炭在高溫條件下生成SiCl4和CO。制備SiCl4的反應方程式為2Cl2+SiO2+2CSiCl4+2CO。