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硅單質及其化合物應用范圍很廣。請回答下列問題：
(1)制備硅半導體材料必須先得到高純硅。
三氯甲硅烷(SiHCl₃)還原法是當前制備高純硅的主要方法，生產過程示意圖如下：

①寫出由純SiHCl₃制備高純硅的化學反應方程式                                 。
②整個制備過程必須嚴格控制無水無氧。SiHCl₃遇水劇烈反應生成H₂SiO₃、HCl和另一種物質，寫出配平的化學反應方程式                                             ；
H₂還原SiHCl₃過程中若混入O₂，可能引起的后果是                                 
                                                                            。
(2)下列有關硅材料的說法正確的是        (填字母)。

硅單質及其化合物應用范圍很廣。請回答下列問題：

    （1）制備硅半導體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷(SiHCl₃)還原法是當前制備高純硅的主要方法，生產過程示意圖如下：

    ①寫出由純SiHCl₃制備高純硅的化學反應方程式        。

    ②整個制備過程必須嚴格控制無水無氧。SiHCl₃遇水劇烈反應生成H₂SiO₃、HCl和另一種物質，寫出配平的化學反應方程式           ；H₂還原SiHCl₃過程中若混入O₂，可能引起的后果是                                 。

    （2）下列有關硅材料的說法正確的是         (填字母)。

      A．碳化硅化學性質穩定，可用于生產耐高溫水泥

      B．氮化硅硬度大、熔點高，可用于制作高溫陶瓷和軸承

      C．高純度的二氧化硅可用于制造高性能通訊材料——光導纖維

      D．普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂制成的，其熔點很高

      E．鹽酸可以與硅反應，故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅

（3）硅酸鈉水溶液俗稱水玻璃。取少量硅酸鈉溶液于試管中，逐滴加入飽和氯化銨溶液，振蕩。寫出實驗現象并給予解釋          。

（10分)硅單質及其化合物應用范圍很廣。請回答下列問題:

(1)制備硅半導體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷還原法是當前制備高純硅的主要方法,生產過程示意圖如下:

①寫出由純制備高純硅的化學方程式:                         。

②整個制備過程必須嚴格控制無水無氧。遇水劇烈反應生成、HCl和另一種物質,配平后的化學反應方程式為?                   ;還原過程中若混入可能引起的后果是?                 。

(2)下列有關硅材料的說法正確的是?       (填字母)。

A．碳化硅化學性質穩定,可用于生產耐高溫水泥

B．氮化硅硬度大、熔點高,可用于制作高溫陶瓷和軸承

C．高純度的二氧化硅可用于制造高性能通訊材料——光導纖維

D．普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂制成的,其熔點很高

E.鹽酸可以與硅反應,故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅

(3)硅酸鈉水溶液俗稱水玻璃。取少量硅酸鈉溶液于試管中,逐滴加入稀硝酸,振蕩。寫出實驗現象并給予解釋                         。

（10分)硅單質及其化合物應用范圍很廣。請回答下列問題:
(1)制備硅半導體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷還原法是當前制備高純硅的主要方法,生產過程示意圖如下:

①寫出由純制備高純硅的化學方程式:                         。
②整個制備過程必須嚴格控制無水無氧。遇水劇烈反應生成、HCl和另一種物質,配平后的化學反應方程式為?                   ;還原過程中若混入可能引起的后果是?                 。
(2)下列有關硅材料的說法正確的是?       (填字母)。