Question

【題目】由SiO2制備高純度硅的工業(yè)流程如圖所示：

下列說法錯(cuò)誤的是

A. SiO2與純硅都是硬度大、熔沸點(diǎn)高的晶體

B. X為CO氣體

C. 反應(yīng)②產(chǎn)生的H2與反應(yīng)③產(chǎn)生的HCl可以循環(huán)使用

D. 反應(yīng)①②③均為在高溫條件下的非氧化還原反應(yīng)

Answer 1

【答案】D

【解析】

A項(xiàng)、SiO2和Si都是原子晶體，硬度大、熔沸點(diǎn)高，A正確；

B項(xiàng)、反應(yīng)①為SiO2+2CSi+2CO↑，可知X為CO氣體，B正確；

C項(xiàng)、由生產(chǎn)高純硅的流程示意圖可知，H2和HCI既是反應(yīng)物，又是生成物，所以可重復(fù)利用的物質(zhì)是H2和HCl，C正確；

D項(xiàng)、反應(yīng)①為SiO2+2CSi+2CO↑，反應(yīng)②Si(粗)+3HCl SiHCI3+H2，反應(yīng)③SiHCI3+H2 Si(粗)+3HCI，三個(gè)方程式中元素的化合價(jià)均發(fā)生變化，均屬于氧化還原反應(yīng)，D錯(cuò)誤；

故本題選D。