Question

(08年廣東卷)硅單質(zhì)及其化合物應(yīng)用范圍很廣。請(qǐng)回答下列問題：

制備硅半導(dǎo)體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷（SiHCl3）還原法是當(dāng)前制備高純硅的主要方法，生產(chǎn)過程示意圖如下：

①寫出由純SiHCl3制備高純硅的化學(xué)反應(yīng)方程式________。

②整個(gè)制備過程必須嚴(yán)格控制無水無氧。SiHCl3遇水劇烈反應(yīng)生成H2SiO3、HCl和另一種物質(zhì)，寫出配平的化學(xué)反應(yīng)方程式____；H2還原SihCl3過程中若混02，可能引起的后果是______     。

（2）下列有頭硅材料的詳法正確的是_____    （填字母）。

A.碳化硅化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定，可用于生產(chǎn)耐高溫水混

B.氮化硅硬度大、熔點(diǎn)高，可用于制作高溫陶瓷和軸承

C.普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂的，其熔點(diǎn)很高

D.鹽酸可以與硅反應(yīng)，故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅

E．鹽酸可以和硅反應(yīng)，故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅

(3)硅酸鈉水溶液俗稱水玻璃。取少量硅酸鈉溶液于試管中，逐滴加入飽和氯化銨溶液，振蕩。寫出實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象并給予解釋_____。

Answer 1

〖解析〗(1) ①寫出由純SiHCl3制備高純硅的化學(xué)反應(yīng)方程式:

SiHCl3+H2==(1357K)== Si+3HCl

②SiHCl3遇水劇烈反應(yīng)生成H2SiO3、HCl和另一種物質(zhì)，寫出配平的化學(xué)反應(yīng)方程式3SiHCl3+3H2O===H2SiO3+H2↑+3HCl;H2還原SiHCl3過程中若混入O2，可能引起的后果是：高溫下，H2遇O2發(fā)生爆炸。

(2)ABCD

解釋：SiC和Si3N4均為原子晶體，熔點(diǎn)高，性質(zhì)穩(wěn)定，AB正確。光導(dǎo)纖維的材料為SiO2，C正確。普通玻璃的主要成分為Na2SiO3和CaSiO3，它是以石英砂（SiO2）、石灰石（CaCO3）和純堿（Na2CO3）為主要原料反應(yīng)制成的。Na2CO3+SiO2==(高溫)==Na2SiO3+CO2；CaCO3+SiO2==(高溫)==CaSiO3+CO2，D正確。常溫下，Si只能與唯一一種酸HF反應(yīng)不與HCl反應(yīng)，E錯(cuò)。

(3)寫出實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象并給予解釋：生成白色絮狀沉淀，又刺激性氣味的氣體生成；SiO32-與NH4+發(fā)生雙水解反應(yīng)，SiO32- + 2 NH4+ + 2H2O === 2NH3?H2O + H2SiO3↓。