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【題目】下表為4種常見溶液中溶質的質量分數和物質的量濃度：

溶質	HCl	NaOH	CH3COOH	HNO3
溶質的質量分數/%	36.5	40	60	63
物質的量濃度/mol·L-1	11.8	14.3	10.6	13.8

這4種溶液中密度最小的是（）

A．HCl B．NaOH C．CH3COOH D．HNO3

【答案】C

【解析】

試題分析：根據c=1000ρw%/M，A、代入式子，密度為1.18g·mol－1，B、密度為1.43g·mol－1；C、密度為1.06g·mol－1；D、密度為1.36g·mol－1，因此選項C正確。

練習冊系列答案

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【題目】對于反應A(g)+3B(g）2C(g)+2D(g)來說，下列四種不同情況下的反應速率最快的是

A．v (A）=0.15 mol/(Ls）

B．v(B）=0.6 mol/(Ls)

C．v(C）=0.4 mol/(Ls）

D．v(D）=0.45 mol/(Ls)

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【題目】在稀硫酸中加入銅粉,銅粉不溶解,再加入下列固體粉末:①FeCl2;②Fe2O3;③Zn;④KNO3,銅粉可溶解的是

A. ①② B. ②④ C. ②③ D. ①④

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【題目】元素單質及其化合物有廣泛用途，請根據周期表中第三周期元素相關知識回答下列問題：

（1）按原子序數遞增的順序(稀有氣體除外)，以下說法正確的是

a．原子半徑和離子半徑均減小

b．金屬性減弱，非金屬性增強

c．氧化物對應的水化物堿性減弱，酸性增強

d．單質的熔點降低

（2）原子最外層電子數與次外層電子數相同的元素名稱為，氧化性最弱的簡單陽離子是。

（3）已知：

化合物	MgO	Al2O3	MgCl2	AlCl3
類型	離子化合物	離子化合物	離子化合物	共價化合物
熔點/℃	2800	2050	714	191

工業制鎂時，電解MgCl2而不電解MgO的原因是；

制鋁時，電解Al2O3而不電解AlCl3的原因是。

（4）晶體硅(熔點1410 ℃)是良好的半導體材料。由粗硅制純硅過程如下：

寫出SiCl4的電子式：；在上述由SiCl4制純硅的反應中，測得每生成1.12 kg純硅需吸收a kJ熱量，寫出該反應的熱化學方程式：

（5）P2O5是非氧化性干燥劑，下列氣體不能用濃硫酸干燥，可用P2O5干燥的是

a．NH3 b．HI c．SO2 d．CO2

（6）KClO3可用于實驗室制O2，若不加催化劑，400 ℃時分解只生成兩種鹽，其中一種是無氧酸鹽，另一種鹽的陰陽離子個數比為1∶1。寫出該反應的化學方程式：

（7）工業上，通過如下轉化可制得KClO3晶體：

完成Ⅰ中反應的總化學方程式：

Ⅱ該反應過程能析出KClO3晶體而無其他晶體析出的原因是。

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【題目】在某稀硝酸的溶液中，加入5.6g鐵粉充分反應后，鐵粉全部溶解，放出NO氣體，溶液質量增加3.2g，所得溶液中Fe2＋和Fe3＋物質的量之比為（）

A．1:1 B．2:1 C．3:2 D．4:1

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【題目】現有一套電化學裝置，如下圖所示，E 為沾有 Na2SO4溶液的濾紙，并加入幾滴酚酞。A、B分別為Pt片，壓在濾紙兩端，R、S為電源的電極。M、N是用多微孔的 Ni 制成的電極材料，它在堿性溶液中可以視為惰性電極。G為電流計，K為開關。C、D和電解池中都充滿濃KOH溶液。若在濾紙中央點上一滴紫色的 KMnO4溶液，斷開K，接通外電源一段時間后，C、D中有氣體產生。