Question

工業(yè)上用“三氯氫硅還原法”制備純硅的工業(yè)流程如圖：

（1）石英砂的主要成分是        （填化學(xué)式），在制備粗硅時(shí)焦炭的作用是        。
（2）制備三氯氫硅的反應(yīng)：
Si（s）+3HCl（g）SiHCl3（g）+H2（g）
伴隨的副反應(yīng)為：        
Si（s）+4HCl（g） SiCl4（g）+2H2（g）
已知SiHCl3和SiCl4常溫下均為液體，工業(yè)上分離SiHCl3和SiCl4的操作方法
為        ；
寫出SiHCl3（g）和HCl反應(yīng)生成SiCl4（g）和H2的熱化學(xué)方程式        。
（3）該生產(chǎn)工藝中可以循環(huán)使用的物質(zhì)是        。
（4）實(shí)驗(yàn)室用SiHCl3與過量H2反應(yīng)制備純硅的裝置如下圖（熱源及夾持裝置略去）.已知SiHCl3能與H2O強(qiáng)烈反應(yīng)，在空氣中易自燃。
①裝置B中的試劑是        （填名稱），裝置C中的燒瓶需要加熱，其目的是         。

②實(shí)驗(yàn)中先讓稀硫酸與鋅粒反應(yīng)一段時(shí)間后，再加熱C、D裝置的理由是        ，裝置D中發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式為        。

Answer 1

（1）（1分）   還原劑（1分）
（2）蒸餾，（2分）  （2分）
（3）HCl和（2分）
（4）①濃硫酸，（1分）使進(jìn)入燒瓶的液態(tài)變?yōu)闅怏w。（1分）②讓排盡裝置中的空氣；（2分）（2分）

解析