Question

工業上用“三氯氫硅還原法”制備純硅的工業流程如圖：

（1）石英砂的主要成分是        （填化學式），在制備粗硅時焦炭的作用是        。

（2）制備三氯氫硅的反應：

Si（s）+3HCl（g）SiHCl3（g）+H2（g）

伴隨的副反應為：        

Si（s）+4HCl（g） SiCl4（g）+2H2（g）

已知SiHCl3和SiCl4常溫下均為液體，工業上分離SiHCl3和SiCl4的操作方法

為         ；

寫出SiHCl3（g）和HCl反應生成SiCl4（g）和H2的熱化學方程式        。

（3）該生產工藝中可以循環使用的物質是        。

（4）實驗室用SiHCl3與過量H2反應制備純硅的裝置如下圖（熱源及夾持裝置略去）.已知SiHCl3能與H2O強烈反應，在空氣中易自燃。

①裝置B中的試劑是         （填名稱），裝置C中的燒瓶需要加熱，其目的是         。

②實驗中先讓稀硫酸與鋅粒反應一段時間后，再加熱C、D裝置的理由是        ，裝置D中發生反應的化學方程式為        。

 

Answer 1

（1） （1分）    還原劑（1分）

（2）蒸餾，（2分）   （2分）

（3）HCl和（2分）

（4）①濃硫酸，（1分）使進入燒瓶的液態變為氣體。（1分）②讓排盡裝置中的空氣；（2分） （2分）

解析:略