Question

【題目】晶體硅是一種重要的非金屬材料，模擬制備純硅的主要步驟如下：
①高溫下用碳還原二氧化硅制得粗硅
②粗硅與干燥HCl氣體反應(yīng)制得SiHCl3：Si+3HCl SiHCl3+H2 ，

	沸點(diǎn)/℃
SiHCl3	33.0
SiCl4	57.6
HCl	﹣84

③SiHCl3與過(guò)量H2在1000～1100℃反應(yīng)制得純硅可能用到的信息如下：
已知SiHCl3能與H2O強(qiáng)烈反應(yīng)，在空氣中易自燃；
步驟②中粗硅與HCl反應(yīng)時(shí)會(huì)生成少量SiCl4；
請(qǐng)回答下列問(wèn)題：
（1）粗硅與HCl反應(yīng)完全后，依據(jù)上表所示沸點(diǎn)差異提純SiHCl3 ． 該提純方法為 ．
（2）用SiHCl3與過(guò)量H2反應(yīng)制備純硅的裝置如下（熱源及夾持裝置略去）：
①依次連接的合理順序?yàn)?/span>；裝置D中g(shù)管的作用是；裝置B中的試劑是；裝置C中的燒瓶加熱的目的是 ．
②裝置A中發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式為 ．
③操作時(shí)應(yīng)先打開(kāi)裝置（C或D）中分液漏斗的旋塞，理由是： ．
（3）請(qǐng)?jiān)O(shè)計(jì)實(shí)驗(yàn)證明產(chǎn)品硅中是否含微量鐵單質(zhì)：將產(chǎn)品用稀鹽酸溶解，取上層清液后 ．

Answer 1

【答案】
（1）分餾
（2）DBCAE；平衡壓強(qiáng)；濃硫酸；使滴入燒瓶中的SiHCl3氣化；SiHCl3+H2 Si+3HCl；D；因?yàn)镾iHCl3容易在空氣自燃，實(shí)驗(yàn)中還要注意先通一段時(shí)間H2排盡裝置中的空氣
（3）先滴加氯水，再滴加硫氰化鉀溶液，溶液顯紅色
【解析】（1）SiHCl3（沸點(diǎn)33.0℃）中含有少量SiCl4（沸點(diǎn)57.6℃）和HCl（沸點(diǎn)﹣84.7℃），由于沸點(diǎn)差別較大，可以通過(guò)分餾除去雜質(zhì)，所以答案是：分餾；平衡壓強(qiáng)；濃硫酸；使滴入燒瓶中的SiHCl3氣化；（2）①依據(jù)實(shí)驗(yàn)?zāi)康目芍�：鋅與硫酸制備氫氣，干燥干燥后通入用水冷卻的SiHCl3，在石英管中反應(yīng)生成硅和氯化氫，最后進(jìn)行尾氣處理，所以正確的順序?yàn)镈BCAE；裝置D中g(shù)管連接分液漏斗與燒瓶，起平衡壓強(qiáng)的作用；濃硫酸干燥氫氣；通過(guò)水浴加熱使滴入燒瓶中的SiHCl3氣化，與氫氣混合均勻； 所以答案是：DBCAE；②高溫下，SiHCl3和氫氣反應(yīng)生成硅單質(zhì)，硅單質(zhì)是灰黑色固體，所以D裝置中的現(xiàn)象是：石英管的內(nèi)壁附有灰黑色晶體；反應(yīng)方程式為：SiHCl3+H2 Si+3HCl，所以答案是：SiHCl3+H2 Si+3HCl；③氫氣是可燃性氣體，易產(chǎn)生爆炸，為防止安全事故的發(fā)生，所以先通一段時(shí)間H2 ， 將裝置中的空氣排盡，所以應(yīng)先打開(kāi)D；所以答案是：D；因?yàn)镾iHCl3容易在空氣自燃，實(shí)驗(yàn)中還要注意先通一段時(shí)間H2排盡裝置中的空氣；因?yàn)镾iHCl3容易在空氣自燃，實(shí)驗(yàn)中還要注意先通一段時(shí)間H2排盡裝置中的空氣；（3）鐵能夠與氫氧化劑反應(yīng)生成三價(jià)鐵離子，三價(jià)鐵離子遇到硫氰酸鉀顯紅色，要檢驗(yàn)鐵單質(zhì)的存在可以：先滴加氯水，再滴加硫氰化鉀溶液，溶液顯紅色；所以答案是：先滴加氯水，再滴加硫氰化鉀溶液，溶液顯紅色．
【考點(diǎn)精析】解答此題的關(guān)鍵在于理解二價(jià)Fe離子和三價(jià)Fe離子的檢驗(yàn)的相關(guān)知識(shí)，掌握Fe3+遇苯酚溶液呈紫色；可用于檢驗(yàn)Fe3+．