Question

【題目】硅是一種重要的半導體材料，應用范圍廣。三氯硅烷(SiHCl3)還原法是當前制備高純硅的主要方法，生產過程如圖所示：

(1)硅屬于__________(選填“金屬”或“非金屬”)元素；

(2)寫出上述流程中一種氧化物的化學式：______________________；

(3)上述流程中最后一步反應的化學方程式為______________________________，該反應屬于________(填基本反應類型)反應；

(4)如果還原SiHCl3過程中混入O2，可能引起的后果是________________________；

(5)該流程中可以循環利用的物質的化學式是____________________。

Answer 1

【答案】 非金屬 SiO2(其他答案合理均可) SiHCl3＋H2Si＋3HCl 置換 爆炸 HCl

【解析】(1)根據元素的名稱分析解答；

(2)根據物質的組成分析屬于氧化物的物質，寫出化學式；

(3)分析流程中最后一步發生反應的化學方程式，根據反應特點分析類型；

(4)根據氫氣和氧氣的混合氣體點燃時會發生爆炸解答；

(5)根據流程分析可循環利用的物質。

解：(1) (1)硅的名稱中帶有“石”字旁，屬于非金屬元素；

(2)二氧化硅是由硅元素和氧元素組成的，屬于氧合物，化學式為：SiO2；

(3)上述流程中最后一步反應的化學方程式為：SiHCl3＋H2Si＋3HCl，該反應是由一種單質與一種化合物反應生成了另一種單質和另一種化合物，屬于置換反應；

(4)如果還原SiHCl3過程中混入O2，會形成氫氣和氧氣的混合體，點燃時易引起爆炸；

(5)該流程中可以循環利用的物質的化學式是HCl。