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4．半圓柱體P放在粗糙的水平地面上.其右端有固定放置的豎直擋板MN.在P和MN之間放有一個(gè)光滑均勻的小圓柱體Q.整個(gè)裝置處于靜止?fàn)顟B(tài).如圖所示是這個(gè)裝置的截面圖.若用外力使MN保持豎直且緩慢地向右移動(dòng).在Q落到地面以前.發(fā)現(xiàn)P始終保持靜止.在此過程中.下列說法中正確的是A．MN對(duì)Q的彈力逐漸減小B．地面對(duì)P的摩擦力逐漸增大C．P.Q間的彈力先減小后增大D．Q所受的合力逐漸增大【查看更多】

半圓柱體P放在粗糙的水平地面上，其右端有固定放置的豎直檔板MN在半圓柱體P和擋板MN之間放有一個(gè)光滑均勻的小圓柱體Q，整個(gè)裝置處于靜止，如圖所示為這個(gè)裝置的截面圖．現(xiàn)使MN保持豎直并且緩慢地向右平移，在Q滑落到地面之前，P始終保持靜止．在此過程中，下列說法中正確的是（　　）

A．MN對(duì)Q的彈力逐漸減小

B．P對(duì)Q的彈力先減小后增大

C．Q所受的合力逐漸增大

D．地面對(duì)P的摩擦力逐漸增大

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半圓柱體P放在粗糙的水平地面上，其右端有一豎直放置的光滑檔板MN．在半圓柱體P和MN之間放有一個(gè)光滑均勻的小圓柱體Q，整個(gè)裝置處于靜止，如圖所示是這個(gè)裝置的截面圖．現(xiàn)使MN保持豎直并且緩慢地向右平移，在Q滑落到地面之前，發(fā)現(xiàn)P始終保持靜止．則在此過程中，下列說法正確的是（　　）

A．MN對(duì)Q的彈力逐漸減小

B．地面對(duì)P的支持力逐漸增大

C．Q所受的合力逐漸增大

D．地面對(duì)P的摩擦力逐漸增大

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半圓柱體P放在粗糙的水平地面上，其右端有固定放置的豎直擋板MN．在P和MN之間放有一個(gè)光滑均勻的小圓柱體Q，整個(gè)裝置處于靜止．圖示是這個(gè)裝置的縱截面圖．若用外力使MN保持豎直，緩慢地向右移動(dòng)，在Q落到地面以前，發(fā)現(xiàn)P始終保持靜止．在此過程中，下列說法中正確的是（　　）

A．MN對(duì)Q的彈力逐漸減小

B．地面對(duì)P的摩擦力保持不變

C．P、Q間的彈力逐漸增大

D．Q所受的合力逐漸增大

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半圓柱體P放在粗糙的水平地面上，其右端有一豎直放置的光滑檔板MN．在半圓柱體P和MN之間放有一個(gè)光滑均勻的小圓柱體Q，整個(gè)裝置處于靜止，如圖所示是這個(gè)裝置的截面圖．現(xiàn)使MN保持豎直并且緩慢地向右平移，在Q滑落到地面之前，發(fā)現(xiàn)P始終保持靜止．則在此過程中，下列說法正確的是（　　）

A、MN對(duì)Q的彈力逐漸減小

B、地面對(duì)P的支持力逐漸增大

C、Q所受的合力不變

D、地面對(duì)P的摩擦力逐漸增大

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半圓柱體P放在粗糙的水平地面上，其右端有固定放置的豎直擋板MN，在P和MN之間放有一個(gè)光滑均勻的小圓柱體Q，整個(gè)裝置處于靜止?fàn)顟B(tài)，如圖所示是這個(gè)裝置的截面圖.若用外力使MN保持豎直且緩慢地向右移動(dòng)，在Q落到地面以前，發(fā)現(xiàn)P始終保持靜止，在此過程中，下列說法中正確的是

A.MN對(duì)Q的彈力逐漸減小 B.地面對(duì)P的摩擦力逐漸增大

C.P、Q間的彈力先減小后增大 D.Q所受的合力逐漸增大

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